Příprava ze stabilizovaných solů

Tato metoda je velmi podobná postupu, vycházejícího z alkoxidů. Liší se pouze v počáteční fázi, kdy stabilizované soly jsou destabilizovány, hlavně změnou pH. Techniky nanesení vrstvy jsou obdobné, jako v předchozím případě. Nutno dodat, ţe finální zpracování se provádí oproti postupům, vycházejících z alkoxidů, při patrně vyšší teplotě.

13 2.4.3 Příprava vrstev SiO2 a TiO2

Vrstvy SiO2 zastávají ve smyslu interferenčních filtrů pozici vrstev s niţším indexem lomu, k čemuţ přispívá i velmi nízká absorpce (extinkční koeficient k, komplexní část rovnice pro index lomu: [9, 10]) oxidu křemičitého. Tvoří přitom také základní sloţku antireflexních povrchů. Při přípravě těchto vrstev vycházíme z křemičitých alkoxidů, nejčastěji pak z tetraethoxysilanu a tetramethoxysilanu.

Oxid titaničitý má jednak amorfní podobu, ale i tři krystalické modifikace: brookit, anatas a rutil. Brookit se přitom v tenkých vrstvách nevyskytuje, amorfní forma se tvoří při menších teplotách, ta se při 400 °C mění v krystalovou modifikaci anatas s indexem lomu [11]. Anatas pak dalším působením tepla přechází při cca 1000 °C na rutil [12], jehoţ index lomu je [11]. V interferenčních filtrech se vrstvy TiO2 velmi často pouţívají jako filmy s vyšším indexem lomu, právě také z důvodu nízké absorpce. Nejčastěji se v optických filtrech setkáváme s krystalickou formou anatas, pro potřeby nízkoteplotní kalcinace se však vyuţívá i amorfní forma TiO2 s indexem lomu [13]. Chceme-li připravit vrstvy TiO2, vycházíme nejčastěji z titaničitého alkoxidu tetraisopropyl titanátu (IPTi).

Na výslednou strukturu a vlastnosti filmu má vliv celá řada proměnných, jejichţ úpravou docílíme poţadovaných parametrů konečného povlaku. Výsledky studia působení hlavních faktorů jsou uvedeny v následujících podkapitolách.

2.4.3.1 Vliv katalyzátorů

Obecně lze říci, ţe křemičité alkoxidy při reakci s vodou jsou poměrně stálé, proto je nezbytné tuto reakci s následnou hydrolýzou a kondenzací urychlit katalyzátorem. Jeho roli velmi dobře splňují kyseliny nebo zásady. Například pouţitím 0,05 M kyseliny chlorovodíkové gelace TEOS, rozpuštěného v ethanolu, byla urychlena aţ desetkrát [14].

Bylo také zjištěno, ţe rychlost reakce, doprovázená hydrolýzou, je závislá nejen na koncentraci katalyzátoru, ale i na teplotě, při které k hydrolýze dochází [15]. Tento fakt je spojený s poklesem mnoţství vody, která je potřebná právě k hydrolýze křemičitého prekurzoru (obrázek 4).

Počáteční výběr katalyzátoru musí být pečlivým a splňovat poţadavky pro syntézu konkrétního výsledného materiálu. Vhodnou volbou určitého katalyzátoru lze řídit dobu gelace, porozitu, hustotu a redukci objemu při konečném tepelném zpracování. Například

14

pouţitím katalyzátoru H2SO₄ o stejné koncentraci místo katalyzátoru HCl a následné kalcinaci lze zvýšit porozitu z 2,8 % na 31 % [16]. Přičemţ koncentrace katalyzátoru (pH) je velmi podstatná a představuje další sledovaný parametr připravovaného solu.

Při potřebě vytvoření vrstev na substrátu jsou některé katalyzátory velmi nevhodné, a to o jakékoliv koncentraci. Patří sem kyseliny octová a fluorovodíková, ale i hydroxid amonný [17]. Zmíněné katalyzátory destabilizují sol velmi rychle za vytvoření partikulárních koloidních částic. Je logické, ţe takový sol neulpí na substrátu. Z tohoto důvodu nebudeme nadále pouţití těchto katalyzátorů uvaţovat.

Obr. 4: Závislost koncentrace vody na teplotě (vlevo) a na koncentraci katalyzátoru (vpravo) během reakce [15]

Při sledování závislostí, uvedených na obrázcích 4 a 5, vycházeli v článku [17] vţdy z roztoku 1 molu TEOS a 2 molů ethanolu, k němuţ byl následně přidán vodný 0,1 M roztok katalyzátoru (příslušné kyseliny) tak, aby molární poměr k byl roven 2.

Pouţitím různých druhů katalyzátorů docílíme samozřejmě i odlišných tlouštěk vrstev (obrázek 5). Je evidentní také, ţe při ţíhání dochází k poklesu objemu vrstvy, a tedy i výsledné tloušťky vrstvy. Prudkost poklesu objemu je spojená i se zvoleným druhem katalyzátoru. Z níţe uvedeného obrázku lze odečíst, ţe při ţíhání do teploty 1000 °C dochází k maximálnímu zhutnění připravené vrstvy, při němţ objem zůstává konstantní. Také vidíme například, ţe při ţíhání na cca 600 °C dosáhneme stejné tloušťky vrstvy při pouţití kyseliny chlorovodíkové, jako při pouţití kyseliny šťavelové, která poskytuje tlustší výchozí vrstvy při niţších teplotách ţíhání.

Je na místě také zmínit, ţe na základě předloţených dat, uvedených na obrázku 5 lze konstatovat, ţe nejmenší změnu objemu vykazuje vrstva, při jejímţ vytvoření byla pouţita kyselina sírová. Lze tedy říci, ţe při pouţití kyseliny sírové jako katalyzátoru je největší pravděpodobnost, ţe nedojde k popraskání vrstvy. Příčinou tohoto jevu je nejspíše fakt, ţe

15

kyselina sírová je nejsilnější z níţe představených katalyzátorů, coţ vede k rychlejší hydrolýze a minimalizaci nezreagovaných skupin –OR, které se podílí na smršťování objemu vrstvy.

Obr. 5: Závislost tloušťky vrstvy na teplotě žíhání a použitém katalyzátoru [17]

Ovšem zásadním sledovaným faktorem při tvorbě optické vrstvy je její index lomu, který je úzce spjat s podílem pórů ve vrstvě. Podíl pórů je přitom závislý nejen na pouţitém katalyzátoru, ale i na konečné teplotě ţíhání. Je patrné, ţe při vyšších teplotách bude připravená vrstva hutnější a bude obsahovat menší mnoţství pórů. S volbou katalyzátoru to však není tak jednoduché, jejich chování lze rozdělit do dvou skupin. Do 1. skupiny patří kyselina chlorovodíková (HCl), dusičná (HNO₃) a šťavelová (C2H₂O₄), do 2. skupiny kyselina sírová (H2SO4) a fosforečná (H3PO4).

Vrstvy, připravené s pomocí první skupiny katalyzátorů vykazují se zvyšující se teplotou do 400 °C nárůst podílu pórů, coţ je spojeno i s minimem indexu lomu, dosaţeném právě při cca 400 °C. Při překročení této teploty dochází ke zhutňování vrstvy, aţ do cca 1000 °C, kdy ve vrstvě uţ nejsou ţádné póry. Chování této skupiny katalyzátorů lze vysvětlit přítomností organických sloţek, které se při zahřívání do 400 °C vypařují a nahrazují póry.

16

Obr. 6: Závislost indexu lomu (vlevo) a objemu pórů (vpravo) různé druhy katalyzátorů na teplotě kalcinace [17]

Chování druhé skupiny katalyzátorů pro přípravu vrstev je však zcela odlišné. Na počátku je termálně neošetřená vrstva mnohem poréznější a tenčí. Sníţení porozity je přitom s nárůstem teploty monotónní a přibliţně od 250 °C je objem pórů v tomto případě menší neţ v případě první skupiny katalyzátorů. Tento fakt svědčí o tom, ţe zde nejsou ve vrstvě přítomny nezreagované organické sloučeniny.

Z výše uvedeného obrázku 6 (vpravo) lze vyčíst, ţe pro přípravu hutných vrstev s nulovou porozitou jsou potřeba v případě druhé skupiny katalyzátoru menší teploty kalcinace.

2.4.3.2 Vliv vody

Jak jiţ víme z kapitoly 2.4.1 je pro hydrolýzu velmi důleţitý molární poměr [ ] [ ( )⁄ ], který udává, kolik bude v průměru skupin Si – O – R zreagováno na Si – O – H. Je pochopitelné, ţe při překročení dojde ke vzniku kyseliny tetrahydrogen křemičité (H₄SiO₄), která je velmi nestabilní a tvoří koloidní roztok. Při dodrţení poměru vznikají přednostně dlouhé vláknité molekuly, vhodné pro vznik vrstev.

V článku [18] sledovali výsledný index lomu vrstvy v závislosti na objemovém podílu vody. Zjistili, ţe při zvýšení objemového podílu vody z 0,5% na 6% došlo ke zvýšení indexu lomu z 1,34 na 1,43, coţ úzce souvisí z porozitou, která klesla z 22% na 7%. S dalším nárůstem objemového podílu vody dochází k opačnému trendu, tedy ke sniţování indexu lomu. Na základě tohoto pozorování došli k závěru, ţe voda hraje velmi důleţitou roli při tvoření vrstev, působí přitom dvěma způsoby:

 zvyšuje povrchové napětí, čímţ zhutňuje strukturu (v případě čl. [7] k tomu docházelo při < 6% obj. H2O)

17

 zvyšuje rychlost kondenzace, při které dochází k vyztuţení struktury a zvýšení odolnosti vůči dalšímu smršťování (v [7] při > 6% obj. H2O)

Lze tedy říci, ţe je vţdy potřeba předem stanovit přesné mnoţství vody v závislosti na tom, jaké vrstvy chceme docílit.

Při sledování vlastností připravených vrstev v závislosti na mnoţství vody v [19] byly zvoleny celočíselné násobky molárních poměrů k. Parametry pro pokusy byly zvoleny následovně podle tabulky 1.

Molární poměr k TEOS [ml] Ethanol [ml] H2O [ml] HCl 0,1M [ml]

2 5 5 0 0,81

3 5 5 0,41 0,81

4 5 5 0,81 0,81

5 5 5 1,21 0,81

Tab. 1: Množství výchozích látek při jednotlivých pokusech [19]

Je potřeba si uvědomit, ţe mimo přidávanou čistou vodu zahrnujeme do celkového mnoţství vody také její podíl, obsaţený v katalyzátoru (kyselině či zásadě).

Na obrázku 7 (vlevo) je vynesena závislost tloušťky vrstvy na kalcinační teplotě pro jednotlivé hodnoty poměrů k. Na základě této závislosti lze říci, ţe čím více molekul vody připadá na jednu molekulu TEOS, tím slabší výslednou vrstvu dostaneme. Se zvyšující se teplotou tloušťka vrstvy zmenšuje, rozsah jejího smrštění je však závislý na výchozím poměru k. Zatímco při představuje smrštění přibliţně 30 % původní tloušťky, při pouţití výchozího solu o poměru je pak smrštění téměř přesně dvakrát menší, tedy o cca 15 %.

Lze tedy očekávat i menší napětí ve vrstvě, které způsobuje její popraskání.

Obr. 7: Závislost tloušťky vrstvy (vlevo) a indexu lomu (vpravo) na teplotě žíhání pro různé mol. poměry k [19]

Chování indexu lomu v závislosti na k (viz obrázek 7, vlevo) představuje také určitý zřetelný trend. Čím výše je nastaven počáteční koeficient solu k, tím je vyšší výsledná

18

hodnota indexu lomu. Zde se opět setkáváme s faktem, ţe nejprve do určité teploty index lomu klesá, coţ se dá vysvětlit jako uvolnění pórů vypařováním určitých zbylých látek.

Následně pak od určité teploty, například pro je tato teplota kolem 400 °C, dochází k nárůstu indexu lomu, odpovídajícímu sniţování mnoţství pórů vlivem působící teploty, která zhutňuje celou strukturu.

Index lomu je samozřejmě spjat s pórovitostí, jejíţ podíl ve vztahu ke koeficientu k a teplotě je znázorněn na obrázku 8, který potvrzuje předpoklad vývoje indexu lomu s teplotou, uvedený výše.

Obr. 8: Závislost objemu pórů na teplotě žíhání pro jednotlivé koeficienty k [19]

Na závěr lze shrnout celkové působení vody na výsledné vlastnosti vrstvy takto: se zvyšujícím se koeficientem k se sniţuje tloušťka, rozsah smrštění vrstvy a objemový podíl pórů, zatímco index lomu v tomto případě postupně roste.

2.4.3.3 Vliv rozpouštědla

Jak zde jiţ bylo několikrát zmíněno, při konečném tepelném zpracovávání vrstvy dochází vţdy k jejímu smršťování. Příčinou je nejen odpařování přebytečných nezreagovaných sloţek, ale i vznik tahového napětí v řádu stovek MPa [20]. Napětí ve vrstvě při zahřívání vzniká odpařováním rozpouštědla, které vyvolává vznik kapilárního tlaku a následně se zvyšuje zhutněním a smršťováním vrstvy. Jinými slovy lze říci, ţe hlavním původcem tahového napětí ve vrstvě při tepelném zpracování není rozdíl koeficientů teplotní roztaţnosti vrstvy a substrátu, tzn. napětí není generováno teplem [21]. Rozdíl koeficientů tepelné roztaţnosti se však projevuje aţ při zchlazení vzorku zpět na pokojovou teplotu.

19

Součtem právě napětí při zahřívání a zchlazení je výsledné zbytkové napětí, které pak měříme při pokojové teplotě.

Pokud bychom měli porovnat rozpouštědla (alkoholy) na základě jejich vlivu na výsledné tahové napětí, tak rozhodujícím parametrem je zde jejich teplota varu [21], která je ovšem závislá na délce řetězce alkoholu.

V principu se jedná o vzájemné protipůsobení povrchového napětí vody a kapilárního tlaku, způsobeného vypařováním alkoholu. Pouţijeme-li alkohol s niţší teplotou varu neţ má voda, dojde k přednostnímu vypaření alkoholu, doprovázené vznikem kapilárního tlaku.

Teplota varu [⁰C] Povrchové napětí [mN/m]

Voda 100 72

Methanol 64,6 22,2

Ethanol 78,5 22,4

n-propanol 97 23,8

n-butanol 117,7 24,6

Tab. 2: Porovnání teplot varu a povrchového napětí jednotlivých alkoholů s vodou [22, 23]

Pouţitím alkoholů s vyšším bodem varu neţ 100 °C dosáhneme přednostního odpaření vody, přičemţ vypařování rozpouštědla nebude tak intenzivní, tedy nárůst kapilárního tlaku bude méně prudký, neţ tomu je u alkoholů s niţší teplotou varu (obrázek 9, vlevo). Dalším předpokladem takového chování je tvorba slaběji zesítěných polymerních řetězců při pouţití objemnějších (větších) molekul rozpouštědla, čímţ je výsledná vrstva plastičtější.

Index lomu (obrázek 9, vpravo) je však téměř nezávislý na pouţitém rozpouštědle. Pro úplnost je nutno dodat, ţe tyto výsledky jsou publikovány v článku [21], kde pro jejich získání vycházeli autoři ze solu o molárním poměru Si(OC₂H₅)₄ : H₂O : HNO₃ (1 M) = 1 : 8 : 0,01 a objemového poměru Si(OC2H₅)₄ : ROH = 1 : 1,1 (kde

).

20

Obr. 9: Závislost tahového napětí (vlevo) a indexu lomu (vpravo) na teplotě pro jednotlivá rozpouštědla [21]

2.4.3.4 Vliv rychlosti

Jak víme, tloušťka vytvořeného filmu je závislá na dvou hlavních parametrech, a to na výchozím sloţení solu a na rychlosti depozice. V případě, ţe tvoříme vrstvy metodou vytahování (dip-coating) udrţujeme konstantní rychlost taţení ze solu. Lze zde přitom teoreticky odhadnout tloušťku vytaţené vrstvy pomocí Landau – Levichovy rovnice pro newtonovskou kapalinu [24]:

( ) ^⁄

⁄

( ) ^⁄

kde η je viskozita roztoku, v rychlost taţení, ρA0 hustota roztoku, γLV povrchové napětí na rozhraní kapalné a plynné fáze a g je normální tíhové zrychlení. Vycházíme-li při přípravě vrstev ze stejného počátečního solu, lze výše uvedenou rovnici zjednodušit na:

^⁄

v níţ pod konstantou k se ukrývají všechny důleţité vlastnosti výchozího solu. Většinou ale nemůţeme popsat chování solu přesně jako newtonovské kapaliny, zavádíme tedy semiempirický vztah:

přičemţ koeficienty k a α určujeme experimentálně. Koeficient α se přitom pohybuje kolem 0,5, tedy zvýšíme-li rychlost taţení z 1 cm/min na 4 cm/min, bude výsledná vrstva přibliţně dvakrát tlustší [24].

21

Hlavním sledovaným parametrem připravené vrstvy je její tloušťka. Od její velikosti se odvíjí vlastnosti interferenčního filtru. Je nutné podotknout, ţe tloušťka filmu roste rychleji s rostoucí koncentrací alkoxidu v solu, neţ s rostoucí rychlostí taţení [25]. Autoři z článku [25] analyzovali poměrně podrobně vrstvy 22% Bi2O3, 25% Fe2O3, 53% TiO2. Výsledky jejich práce jsem zpracoval do níţe uvedených grafů 1, 2 a 3.

Graf 1: Závislost indexu lomu na rychlosti tažení [cm/min] pro jednotlivé koncentrace solu [25]

Z grafu 1 lze vyčíst, ţe při rychlosti kolem 36 cm/min dochází k maximálnímu nárůstu indexu lomu pro všechny koncentrace. Po překročení této rychlosti se však chování jednotlivých solů liší, přesněji řečeno pro koncentrace vyšší neţ 1% dochází k poklesu indexu lomu, zatímco pro koncentraci 1% pozorujeme slabý růst. Dále je potřeba říct, ţe nejvyšší hodnoty indexu lomu dosahoval sol o koncentraci 2,5%, při vyšších rychlostech však vykazoval přibliţně stejné chování, jako 1% sol.

Graf 2: Závislost odrazivosti [%] na rychlosti tažení [cm/min] pro jednotlivé koncentrace solu [25]

1,9

22

Stejně jako index lomu, tak i odrazivost byla nejvyšší při pouţití solu o koncentraci 2,5% (graf 2). Trend jednotlivých závislostí byl přibliţně stejný jako u závislosti indexu lomu, změny v chování však nebyly tak rozsáhlé.

Graf 3 dokazuje několik zásadních předpokladů. Prvním a obecně známým je ten, ţe se zvětšující se rychlostí roste i velikost tloušťky vrstvy. Dále pak vidíme, ţe s rostoucí koncentrací roste i tloušťka filmu. A posledním, ne tak na první pohled zjevným faktem je, ţe nárůst tloušťky vrstvy je mnohem více závislý na koncentraci solu, neţ na rychlosti taţení.

Důkazem je poměr směrnic v grafu 3 jednotlivých solů.

Graf 3: Závislost tloušťky vrstvy [Å] na rychlosti tažení [cm/min] pro jednotlivé koncentrace solu [25]

2.4.3.5 Závislost na rychlosti otáčení při nanášení odstřeďováním (spin-coating) Metoda dip-coating je spojena s celou řadou aspektů, které jsou pro určité aplikace minutu). Při třetí fázi však rychlost otáčení roste, čímţ dochází ke ztenčení vrstvy. Intenzita ztenčování vrstvy ale klesá s časem, pochopitelně díky klesajícímu objemu solu na substrátu a v určité chvíli dosáhne úrovně ztenčování, srovnatelné s redukcí tloušťky odpařováním

23

rozpouštědla. Viskozita přitom dramaticky vzroste a odtok tekutiny se zastaví [27].

V poslední fázi dochází ke ztenčení vrstvy odpařením rozpouštědla.

Metoda spin-coating představuje velmi komplikovaný systém, pro jeho pochopení je nutné vycházet z dynamiky odstředivé síly, reologie viskózní kapaliny a dynamiky odpaření rozpouštědla. Jsou to dost těţce popsatelné vědní disciplíny, které vyţadují řešení celé řady diferenciálních rovnic. Nakonec se však vědci na začátku 90. let [28] dopracovali k víceméně rozumné rovnici predikce tloušťky vrstvy, která zní:

( ) *( vzduchu a υ je kinematická viskozita plynu.

Vidíme tedy, ţe ^⁄ , obecně pak , kdy λ exponent 0,5 je nejčastějším případem, pohybuje se však od hodnot 0,4 aţ do 1,4 (pro některé polyimidy). Při pouţití metody spin-coating však můţeme narazit na odlišné parametry ve středu a na krajích substrátu, proto je rozumné pro analýzu vţdy brát data z obou zmíněných lokalit.

V článku [29] vycházeli autoři ze solu o molárním poměru [TEOS] : [H2O] : [HCl] = 1 : 7 : 0,04, který před depozicí zfiltrovali přes 0,2 μm filtr. Výsledky jejich měření jsou uvedeny v tabulce 3.

rychlost otáčení [ot./min]

Tloušťka [Å] Index lomu nerovnoměrnost

střed okraj střed Okraj [%]

Tab. 3: Tloušťka vrstvy a index lomu v závislosti na rychlosti otáčení [29]

Z výše uvedené tabulky je patrné, ţe mezi velikostí jak tloušťky, tak i indexem lomu ve středu a na okrajích je rozdíl cca od 2 do 5 %. Platí také, ţe ta nejednotnost klesá s rychlostí otáčení, film je tedy při vyšších otáčkách mnohem více uniformní. Je zřejmé, ţe tloušťka filmu klesá s rostoucí rychlostí a film se stává mnohem hutnější, o čemţ svědčí rostoucí index lomu ns. Tyto skutečnosti potvrzují i níţe uvedené grafy na obrázku 10, kde je

24

vidět, ţe pokles tloušťky hs (od středu substrátu) v případě vyššího počtu otáček není tak razantní.

Obr. 10: Index lomu a tloušťka filmu v závislosti na vzdálenosti od středu pro 2000 ot./min (vlevo) a 4000 ot./min (vpravo)

Pokles tloušťky vrstvy se zvyšující se rychlostí otáčení se týká i ostatních filmů, připravených metodou sol – gel. Tak například v článku [30] byly publikovány výsledky nanášení vrstvy metodou spin-coating a sledování závislosti tloušťky vrstvy oxidu zinečnatého na rychlosti otáčení. Z přiloţeného grafu 4 je patrné, ţe závislost tloušťky vrstvy na rychlosti otáčení je exponenciální. Tloušťku filmu lze pak v tomto případě stanovit podle proloţené spojnice trendu s rovnicí:

kde t je tloušťka a s je rychlost otáčení. Vidíme tedy, ţe exponent λ je 0,8218, coţ potvrzuje předpoklad, ţe 〈 〉.

Graf 4: Závislost tloušťky vrstvy na rychlosti otáčení [30]

25 2.4.3.6 Vliv úhlu nanášení dip coating

Při tvorbě optických interferenčních filtrů se můţeme setkat také s metodou nanášení vrstev, vycházející z původní metody dip-coating, modifikované nanášením pod určitým úhlem. Je to dost sofistikovaný způsob, jak získáme najednou 2 vrstvy, lišící se tloušťkou i indexem lomu [31]. „Do hry“ tedy vstupuje mimo rychlost taţení a koncentraci solu další parametr: sklon depozice.

Obr. 11: Porovnání klasické varianty dip coatingu (vlevo) a z ní odvozená nakloněná metoda [31]

Z výsledků měření, uvedených na obrázku 12 lze vyčíst velmi zajímavý trend: při zvětšování sklonu depozice dochází ke ztenčení dolní vrstvy, zatímco tloušťka horní vrstvy se zvětšuje. Rychlost taţení a koncentrace solu, jeţ při růstu způsobují i nárůst tloušťky, byly diskutovány dříve. Mají stejný vliv i na vzorky nanášené pod určitým úhlem.

Obr. 12: Porovnání tloušťky dolní a horní vrstvy při různých úhlech a rychlostech tažení [31]

Problematika nerovnoměrnosti okrajů se nevyhnula ani depozice pod určitým sklonem.

Liší se však od klasické metody a dá se téměř eliminovat. Na obrázku 13 (vlevo) vidíme síly

26

působící na okraje substrátu, díky nimţ vidíme nevhodné defekty na hotových vzorcích.

Uprostřed jsou znázorněny výslednice sil, způsobující na horní straně ještě větší defekty, neţ u předchozího případu. Dolní strana (obrázku 13, vpravo) naopak nevykazuje téměř ţádné okrajové defekty. Rozsah defektů se zvyšuje s rostoucí rychlostí depozice, proto abychom vytvořili dostatečnou plochu bez defektů, jsme omezeni maximálním úhlem nanášení ° a maximální rychlostí nanášení mm/s [31].

Obr. 13: Srovnání působících sil, způsobujících defekty na okrajích vzorku [31]

2.4.3.7 Nízkoteplotní sol – gel metoda

Pro mnoho technických aplikací je sníţení teploty celého procesu zcela nezbytné.

Umoţňuje totiţ pouţití určitých tepelně méně odolných materiálů a pomáhá předejít neţádoucí interakce [32]. Bohuţel však sol – gel proces vyţaduje teploty, přesahující 400 °C.

Musí totiţ dojít k důkladné krystalizaci a k odstranění organických zbytků. Při ţíhání nad teplotu 400 °C vzniká z amorfní fáze krystalická forma TiO2 – anatas. Dalším zahříváním přechází anatas na rutil (viz obrázek 14).

Avšak i amorfní fáze jak oxidu křemičitého, tak i oxidu titaničitého se v interferenčních filtrech vyuţívají. Ta je ve vrstvě přítomna při kalcinaci do cca 350 °C.

Sleduje tuto úvahu lze říci, ţe „sušením“ povlaků při teplotách do 250 °C po delší dobu se nejen zbavíme zbytků solu z pórů (voda a alkohol, vzniklé polykondenzačními reakcemi), ale zachováme také optické vlastnosti filmů. Tloušťka vrstev a jejích mikrostruktura byly hlavními objekty dalšího studia a v závislosti na teplotě jsou popsány v části „výsledky a diskuse“.

27

Obr. 14: RTG difraktogram TiO2 tenkých filmů, kalcinovaných při různých teplotách [12]

2.5 Analýza připravených vrstev

Základní charakteristikou filmů, nanesených na podklad, slouţící následně jako

Základní charakteristikou filmů, nanesených na podklad, slouţící následně jako