Příloha 1:
Vakuová aparatura pro vysokofrekvenční (RF) plasma
Vakuová aparatura pro vysokofrekvenční (RF) plasma je zobrazena na obr. P1.1.
Skládá se z hlavní komory vybavené elektrodou pro vývoj plazmatu, přívodem atmosféry a jejím odtahem. Nerezová elektroda je připojena ke zdroji napětí a slouží k umístění upravovaného vzorku, zbytek komory je uzemněn. To umožňuje intenzivní úpravu vzorku, neboť nejvyšší koncentrace excitovaných částic je právě na povrchu a v okolí této elektrody. Zařízení využívá generátor napětí AGG-3 (až 13,56 MHz) připojený přes impedanční jednotku Antenna Tunner TEN-TEC 238B. Plyn atmosféry je při úpravě přiváděn do komory přes sprchový vstup a průtok plynu je řízen pomocí průtokoměru Mass Flow Metter. Vysoké vakuum je zajištěno kombinací olejové rotační a Rootsovy pumpy (vývěvy). Při výstupu z komory prochází plyn přes dusíkovou chladící jímku, která umožňuje zachycení nečistot. Tlak v komoře je měřen vakuometrem Pirani TPR 010.
Obr. P1.1 Vakuová aparatura pro vysokofrekvenční (RF) plazma: (A) vnější pohled a (B) vnitřní uspořádání; a - nerezová elektroda, b - sprchový vstup plynu, c – odtah plynu k vývěvám.
B A
