• No results found

2.1 Plazma

2.1.1 Fyzikální popis plazmatu

Plazma je často nesprávně nazýváno čtvrtým skupenstvím hmoty. Nesprávné pojetí plazmatu jako čtvrtého skupenství vychází z toho, že silným ohřevem ostatních skupenství přes pevné, kapalné, plynné je nakonec dosaženo plazmatu. Z fyzikálního pohledu je plazma plynný stav, ve kterém je kinetická energie atomů a molekul tak veliká, že při jejich vzájemných srážkách dochází k ionizaci nárazem. Jednoduše je možné říci, že zvětší-li se teplota plynu nad určitou hodnotu, dojde ke zvýšení pohybové energie jednotlivých atomů a molekul natolik, že při srážce dvou těchto částic může dojít k jejich rozbití na elektrony a kladné ionty. Tím dochází k ionizaci plynu.

Elektrony a ionty vzniklé ionizací nesou elektrický náboj a působí na sebe navzájem elektrostatickými silami. Tyto síly působí na poměrně velké vzdálenosti a tím se každá částice (ion, elektron) dostává opět do silového pole ostatních částic. Tento jev se nazývá kolektivní chování. /1,2,3/

Obr. 2.1: Skupenské stavy vody v závislosti na teplotě /5/

Plazma se skládá z elektronů, iontů a elektroneutrálních částic. Ionty a elektrony jsou označovány jako těžké částice, protože jejich hmotnost několikanásobně převyšuje hmotnost elektronů. V závislosti na obsahu vnitřní energie se mohou některé částice

vyskytovat v nabuzeném (excitovaném) stavu. Přechod částice z excitovaného do základního stavu se děje fotoemisí, která má za následek záření plazmatu. Tohoto jevu se využívá v zářivkách. Krom výše uvedených částic tedy plazma obsahuje navíc částice v excitovaném stavu a fotony. Všechny tyto složky musí splňovat podmínku kvazi-neutrality. To znamená, že kladné a záporné náboje částic musí být vzájemně vyrovnány a plazma se tedy navenek jeví jako elektricky neutrální. /4/

Shrnutím uvedeného lze získat obecnou definici: Plazma je kvazineutrální soubor částic s volnými nosiči nábojů, který vykazuje kolektivní chování. /1/

Plazma je ionizovaný plyn, který vzniká buď roztržením molekul (ionizací) anebo odtržením elektronů z elektronového obalu atomů plynu. Podle množství nabitých a nenabitých částic (tj. neutrální molekuly a atomy) rozlišujeme plazma slabě a silně ionizované. Právě nabité částice neboli volné nosiče náboje jsou tím nejdůležitějším, co odlišuje plazma od plynného skupenství. Díky volným nosičům náboje je plazma vodivé a silně reaguje na elektrická a magnetická pole. /6, 7/

Pro existenci plazmatu platí dvě základní nezbytné podmínky: přítomnost volně se pohybujících částic a velké množství těchto částic. Plazma je možné vytvořit z plynného prostředí již zmíněným zahříváním dále elektrickým polem nebo elektromagnetickými vlnami. /7/

2.1.2 Výskyt plazmy v přírodě

Pozemská příroda je na plazmu vcelku chudá a to díky příliš nízkým teplotám a tudíž nízkým energiím. Jediné formy jsou: oheň, blesk, polární záře a plazma ionosféry.

Oheň resp.plamen je jednou z přechodných forem mezi skupenstvím plynným a plazmatem.

Blesk, vznikající náhlým vyrovnáním elektrických nábojů v atmosféře, má přes veliké vyrovnávací proudy (desítky až stovky tisíc ampér) poměrně malou celkovou energii (řádově 105 Wh) pro krátkou dobu trvání (několik ms).

Polární záře je realizována světlem, které je vyzařováno horními (řídkými) vrstvami atmosféry. Předpokládá se, že k nabuzení atomů těchto vrstev dochází vlivem

jejich srážek s rychlými nabitými částicemi, vysílanými povrchem Slunce a zachycenými magnetickým pólem Země.

Ionosféra (část atmosféry ionizovaná vlivem UV záření Slunce, stupeň ionizace je cca 0,01%). Dochází na ní k odrazu elekromagnetických radiových vln a též k částečné absorpci a zkreslení radiosignálů vysílaných umělými družicemi.

Vesmír je oproti Zemi na plazmu bohatý. Odhaduje se, že více než 99% jeho hmoty je tvořeno právě plazmou. Jednotlivé konkrétní formy plazmatu ve vesmíru jsou velmi rozmanité: hvězdy včetně našeho slunce. Jevy ve vesmíru vysvětluje astrofyzika na základě plazmatických resp. magnetohydrodynamických efektů. Mezi často diskutované jevy patří: záření hvězd, jevy na Slunci (koróna, erupce, skvrny), vznik nov, urychlování nabitých částic v gigantických kosmických elektromagnetických polích (kosmické záření) atd. /2/

Obr. 2.2: Blesk Obr. 2.3: Oheň

Obr. 2.4: Polární záře Obr. 2.5: Slunce

2.1.3 Rozdělení plazmatu

Na základě způsobu vytvoření resp. způsobu dodání energie k vzniku se plazma může nacházet v širokém spektru stavů, od teplotně rovnovážného až po extrémně nerovnovážný stav. Tyto pojmy lze též duplikovat pojmy izotermní a neizotermní.

U plazmatu v rovnovážném stavu (izotermním) mají všechny částice stejnou teplotu i energii. Takové plazma se nachází v nitru hvězd. U plazmatu neizotermního teplota elektronů výrazně převyšuje teplotu ostatních druhů částic. Izotermní plazma bývá často spojeno s vysokou teplotou ovšem není to podmínkou. Pro neizotermní plazma však platí stoprocentně, že v přírodě samovolně zaniká a je tedy třeba ho udržovat uměle. /6/

Druhým zásadním způsobem dělení plazmatu je na nízkoteplotní a vysokoteplotní:

Nízkoteplotní plazma má teplotu nižší než 106 K. Vzniká během elektrických výbojů v plynu a je využívána různými obory vědy a průmyslu. Dále ho ještě dělíme na studenou plazmu s teplotou plynu řádově 102 K a na horkou plazmu s teplotou plynu řádově 104 K.

Studená plazma je standardně generována za nízkých tlaků ve vakuu s využitím nízko výkonných generátorů stejnosměrného proudu a mikrovlnného záření. Teplota elektronů se pohybuje v rozmezí 10 000–50 000 K a je vyšší než teplota iontů, která je stejná jako teplota neutrálního plynu. Teplota plazmového plynu se pohybuje kolem 30-100° C, a proto lze tuto plazmu použít pro všechny typy organických materiálů. /8/

Horká plazma je připravována za vysokých tlaků (více než 10 kPa) s využitím stejnosměrného i střídavého proudu, mikrovlnného záření nebo radiových frekvencí.

Teplota plazmového plynu je blízká teplotě elektronů a proto bývá označována jako teplotně vyvážená plazma. Typická je nízká ionizace plazmového plynu. Tento typ plazmy se používá k plazmovému naprašování při tvorbě povrchových nánosů na kovech a anorganických materiálech a k likvidaci pevných, kapalných i plynných toxických a nebezpečných látek. /8/

Vysokoteplotní plazma je plně ionizováno a už v něm téměř neexistují neutrální atomy. Tento stav nastává při teplotách kolem 105 K. Elektrické vlastnosti vysokoteplotního plazmatu jsou podobné vlastnostem kovů.

Uměle vytvořit lze vysokoteplotní plazma buď jaderným výbuchem nebo jen ve velmi složitých zařízeních, zpravidla pracujících jen v pulzním režimu s délkami pulzů řádově mikrosekundy až milisekundy. Jsou to uzavřené torusy (tokamaky), magnetická zrcadla, zařízení využívající ohřev laserem apod. Možnosti v nich probíhajících jaderných reakcí a následného energetického využití jsou však zatím velmi omezené. /8, 10/

Plazmatické skupenství můžeme rozdělit ještě na několik dalších skupin:

Běžné plazma: elektronové obaly atomů jsou částečně poškozené (vysokou teplotou nebo tlakem). Volné elektrony jsou zodpovědné za plazmatické vlastnosti látky.

Termonukleární plazma: atomární obaly neexistují, látka je směsicí holých jader a volných elektronů. V tomto stavu je plazma v jádrech hvězd, kde probíhá termojaderná syntéza.

Nukleonové plazma: vysokou teplotou nebo tlakem jsou rozrušena sama jádra atomů. Látka je směsicí elektronů, protonů a neutronů. Nukleonové plazma se ve vesmíru objevilo v časech 10−5 s po vzniku, kdy se z kvarků tvořily první protony a neutrony. Nalezneme ho také ve vnějších obalech explodující supernovy, kde jeho vznik vyvolá stlačení plynů rázovou vlnou. V obálce krátkodobě probíhají překotné termonukleární reakce vedoucí ke vzniku těžkých prvků.

Kvark-gluonová plazma: při vysokých energiích jsou roztaveny samotné nukleony na své konstituenty – kvarky a gluony. V tomto stavu byla látka asi do deseti mikrosekund po vzniku vesmíru a uměle se podařilo tento stav látky vytvořit v CERNu v roce 2000. /6/

Člověk dnes snadno dokáže vytvořit plazma i v laboratoři . Nejtypičtější příklady jsou:

laserové plazma – doba života: 10−12 - 10−9 s

pulsní plazma – doba života: 10−9 - 10−6 s

tokamak – doba života: 1 s

studené plazma – doba života: hodiny, dny, roky /6/

2.1.4 Vlastnosti plazmatu

Tři základní podmínky, které musí plazma splňovat:

1. λD << L 2. ND >> 1 3. ωτ > 1

kde λD … Debyeova délka

ND … počet částic v Debyeově sféře L … charakteristický rozměr plazmatu ω … frekvence plazmových oscilací

τ … střední doba mezi srážkami s neutrálními atomy /14/

2.1.4.1 Teplota

Krom hustoty má každý plyn i teplotu, která je mírou náhodného pohybu částic plynu. Podle teploty lze rozlišit dva druhy plazmatu: vysokoteplotní a nízkoteplotní.

/12/

Teplota je důsledkem pohybu částic. Na teplotu plazmatu je však třeba nahlížet trochu jinak, než jak je běžné. Vysoká teplota totiž nijak nesouvisí s vysokou tepelnou energií systému. Teplota se tedy určuje ze statistického rozdělení energií jednotlivých částic. /13/

Zajímavostí je, že plazma může mít několik teplot současně. K tomu může docházet proto, že frekvence srážek elektronů mezi sebou a iontů mezi sebou je větší než frekvence srážek mezi elektrony a ionty. Každý druh částic potom může být ve své vlastní teplené rovnováze, ale plazma se nemusí udržet dostatečně dlouhou dobu nezbytnou k tomu, aby se obě teploty vyrovnaly. /7/

2.1.4.2 Kvazineutralita

Kvazineutralita znamená, že z makroskopického hlediska je i v malých dílčích objemech plazmatu hustota elektronů téměř rovna hustotě iontů. Navenek se tudíž plazma jeví jako elektricky neutrální, ale z mikroskopického hlediska volné elektrony a ionty způsobují svými elektromagnetickými interakcemi všechny charakteristické jevy v jeho chování. /13/

2.1.4.3 Kolektivní chování

Neutrální molekuly spolu interagují pouze prostřednictvím srážek, jejich chování tedy závisí pouze na stavu nejbližších okolních molekul. Elektricky nabité částice však mohou při svém pohybu vytvářet v určitých oblastech vyšší či nižší koncentrace kladného a záporného náboje, a tedy i elektromagnetická pole. Tato pole ovlivňují prostřednictvím elektromagnetické interakce pohyb jiných nabitých částic i ve větších vzdálenostech, protože coulombovské (elektrostatické) síly jsou mnohem větší než gravitační síly mezi atomy či molekulami a mají daleký dosah. To je důvod k tomu, aby měl plazmat možnosti vlastních pohybů. Kolektivním chováním se rozumí takové pohyby, které nezávisejí pouze na podmínkách nejbližšího okolí, ale rovněž na stavu plazmatu ve větších vzdálenostech. Příkladem těchto pohybů mohou být sluneční erupce. /14/

2.1.4.4 Debyeovo stínění

Pojem Debyeovo stínění úzce souvisí s kvazineutralitou. Tento jev je jedním z projevů kolektivního chování částic v plazmatu. Částice v plazmatu se chovají společně tak, aby eliminovaly vliv externě přivedených nábojů. Tento efekt lze pozorovat jen v případě, že je Debyeova sféra podstatně menší než jsou rozměry systému. Je to také jedna z nutných podmínek, abychom plyny s nabitými částicemi mohli nazvat plazmatem. /7, 13/

N L

k … Boltzmannova konstanta, k = (1,380658 ± 0,000012) . 10-23J.K-1 Te… elektronová teplota

N … hustota, Ni = Ne ≈ N

e … elementární náboj (1,602 189 2 .10-19C) /15/

2.1.5 Typy elektrických výbojů generující plazma

Elektrický výboj je jev vznikající při průchodu elektrického proudu plynem.

Podmínkou vzniku výboje je: existence volných nosičů náboje (elektronů a iontů) a

elektrická energie dodávaná do plynu (elektrickou energii lze do plynu ve výbojce dodávat různými způsoby)

Výboje lze dělit na základě různých kritérií: délky jeho trvání, tlaku, typu buzení, přítomnosti ionizačního činidla. Pokud je nutná přítomnost ionizátoru, mluvíme o nesamostatném elektrickém výboji (výboj zanikne, když ionizátor přestane působit).

V opačném případě jde o samostatný elektrický výboj (výboj se udrží vlastní ionizací).

/11/

Jiskrový výboj je krátkodobý samostatný výboj vznikající při vysokém napětí mezi dvěma vodiči za atmosférického tlaku. Tento výboj je doprovázen zvukovými a světelnými efekty. Jiskra má podobu jasně svítících rozvětvujících se kanálků, ve kterých dochází k ionizaci při teplotě až 30 000 K. Nejtypičtějším př. jiskrového výboje je blesk. /9/

Obloukový výboj. Jedná se o samostatný výboj mezi elektrodami, charakteristický vysokými proudy a teplotami v řádech tisíců kelvinů. Probíhá nejčastěji za atmosférického tlaku a používá se např. při obloukovém sváření kovů. /9/

Doutnavý výboj je samostatný výboj s viditelnou složkou, který lze pozorovat ve výbojkách za snížených tlaků. Probíhá při malých proudech (řádově miliampéry), teplota výbojky i elektrod je nízká. Doutnavý výboj ve výbojkách a zářivkách je úsporným zdrojem světla (oproti klasickým žárovkám je světlo výbojek při stejném příkonu 5krát intenzivnější). Tento výboj lze vytvořit několika způsoby a jeho vlastnosti jsou značně odlišné v závislosti na účelu využití. Lze ho použít buď pro plnění plynového laseru a to jako pulzní výboj s amplitudou proudu až několik ampér anebo pro plazmové zpracování ve formě prostorového výboje, kdy naopak nemá pulzní charakter a jsou používány proudy v rozsahu desetin miliampér.

Doutnavý výboj vzniká při rovnoměrném homogenním elektrickém poli při nízkých tlacích. Stabilizace tohoto výboje je složitější než u koróny. Pro udržení stabilního výboje je nutná vhodná atmosféra (např. helium) a frekvence vyšší než 1kHz.

Pro vytvoření tohoto výboje musí být alespoň jedna elektroda pokryta dielektrikem.

Hlavní výhodou tohoto výboje je vyšší hustota energie než u koróny. Hlavní nevýhodou jsou vyšší nároky na stabilizaci a udržení výboje. /9/

Stejnosměrný výboj. V mikroskopickém měřítku je popisována tvorba tohoto výboje tak, že kladný iont vytvořený srážkou elektronu s molekulou nebo atomem plynu v oblasti „katodové vrstvy“ je urychlován napěťovým spádem (elektrickým polem), směrem k záporné elektrodě. Po následné kolizi iontu s elektrodou jsou z elektrody vyraženy tzv. „sekundární elektrony“, které jsou urychlovány ve zpětném směru napěťovým spádem o stejné velikosti. Tyto elektrony pak předají největší část své energie opět v oblasti „katodové vrstvy“.

Tento výboj je zejména využíván pro leptací operace a depozice tenkých filmů.

Procesní tlaky se pohybují v rozmezí 10-1 - 10 Pa. Při využití dodatečného magnetického pole (magnetrony), dojde ke zvýšení ionizačního stupně výboje. /18/

Radiofrekvenční výboj disponuje dvěma hlavními výhodami. Díky měnící se polaritě může operovat s izolujícími materiály a z hlediska konstrukčního může pracovat v tzv.

bezelektrodovém uspořádání (elektrody jsou vně plazmové nádoby). Nejčastěji využívané frekvence jsou v rozsahu f = 1 - 100 MHz, což odpovídá vlnové délce záření λ = 300 - 3 m.

Tyto výboje jsou rozdělovány pomocí mnoha parametrů, jimiž jsou např.:

umístění elektrod s ohledem k plazmové nádobě (vnitřní, vnější elektrody); dle druhu zapojení elektrod (symetrické, nesymetrické zapojení), ale také dle druhu zapojení výkonu a to na kapacitně vázaný výboj a induktivně vázaný výboj. /18/

Mikrovlnný výboj. Charakteristickou vlastností tohoto typu výboje je vlnová délka, která odpovídá u většiny běžně používaných zařízení λ = 12,24 cm při f = 2,24 GHz.

Hodnota ionizačního stupně mikrovlnné plazmy odpovídá radiofrekvenčnímu induktivně vázanému výboji. Tím je dána i vyšší koncentrace vysoko-energetických elektronů. Důsledkem toho má výboj i zvýšenou celkovou teplotu. Pokud tedy chceme využít tento výboj pro polymerní anebo tepelně citlivé materiály, musíme většinou využít tzv. „downstreamové“ uspořádání, tj. umístění substrátu mimo hlavní zónu výboje. /18/

Korónový výboj je běžným jevem při atmosférickém tlaku. V přírodě vzniká např.

při bouřce na ostrých hranách listů nebo špičkách stromů, kde se projevuje

světélkováním. Rovněž v blízkosti vysokého vedení může dojít k vytvoření dostatečně silného elektrického pole nutného ke vzniku koronového výboje. /16/

Korónový výboj je nízkoenergetický bodový výboj. Napětí potřebná pro vznik koronového výboje se pohybují v oblasti několika kilovolt. Korónový výboj se v současné době již běžně průmyslově využívá. Jeho hlavní nevýhodou je malá rychlost zpracování daná nízkou energetickou hustotou. Další nevýhodou je daná vzdálenost výboje od zpracovávaného materiálu a tomu odpovídající nižší hustota aktivních částic.

/17/

Dielektrický bariérový výboj (též nazývaný jako tichý výboj). Jeho hlavním znakem je filamentární (vláknitý) charakter. Při atmosférickém tlaku se vytvoří spousta velice tenkých „vláken“ s poloměrem přibližně l00µm, které se v dolní části rozšiřují na povrchový výboj s poloměrem cca 0,5cm. Tato „vlákna“ jsou náhodně rozmístěna po zpracovávaném povrchu a navzájem se neovlivňují. Výboj lze stabilně udržet od frekvence 50Hz. Alespoň jedna z elektrod musí být pokryta dielektrikem.

Vlastnostmi dielektrika je zároveň omezeno množství energie ve výboji. Hlavní výhodou tohoto výboje je snadná stabilizace a technická jednoduchost zařízení. /9, 10/

Koplanární výboj. Jedná se o typ dielektrického bariérového výboje. Tyto výboje generují nerovnovážnou plazmu při atmosférickém tlaku. Elektrody koplanárního výboje jsou tvořené kovovými pásky nacházejícími se v dielektriku blízko jeho povrchu. Po přivedení napětí mezi kovové pásky se na povrchu dielektrika (nejčastěji keramiky) rozhoří mikrovýboje. Takto generovaná plazma je makroskopicky homogenní a tvoří na povrchu dielektrika vrstvu hlubokou několik desetin milimetru.

Výhodou tohoto typu výboje je, že při zvyšovaní výkonu dodávaného do výboje nedochází k zvyšování nehomogenity výboje, ale dokonce dochází k jeho homogenizaci. V porovnaní s povrchovým bariérovým výbojem je jeho výhodou neomezená životnost, protože plazma není v kontaktu s elektrodami. /10, 11/

2.2 PLAZMATICKÁ ÚPRAVA MATERIÁLŮ

Plazmatem je možné upravit povrch na molekulární úrovni, takže je schopen snadné vazby s jinými látkami. Dále je možné vhodnou volbou pracovního plynu pokrývat povrch novými vrstvami. Schopnost plazmatu ovlivňovat vlastnosti povrchů

úprav povrchů je možné plazma využívat i pro jejich čištění. Technickému a technologickému pokroku dnes vděčíme za zdroje generující nízkoteplotní plazmu využitelnou i na povrchové úpravy textilií.

Podstata plazmové úpravy je založena na změně chemických i fyzikálních vlastností povrchu polymeru. Plazma vzniká pod vlivem výbojů, k nimž dochází ve vakuové komoře nebo při atmosférickém tlaku. Výboje jsou generované rychle se měnícím energetickým polem v plynném prostředí (nejčastěji kyslík, dusík, hélium, argon, xenon, chlor, fluor a vzduch).

2.2.1 Interakce plazmy s vrchní vrstvou materiálu

Při interakci vrchní vrstvy materiálů s plazmou dochází ke čtyřem základním procesům:

- čištění povrchu materiálu - moření vrchní vrstvy

- síťování molekul ve vrchní vrstvě - vznik nových chemických struktur.

Vliv jednotlivých procesů modifikace vrchní vrstvy závisí hlavně na těchto podmínkách:

1. Doba modifikace, tj. doba působení plazmy na materiál 2. Energii a výkonu přístroje

3. Tlak a teplota ve výbojové komoře 4. Intenzita proudění a druh plynu 5. Elektrické napětí a frekvence výbojů 6. Teplota modifikovaného materiálu 7. Rozměry výbojové komory

8. Umístění modifikovaného výrobku v komoře 9. Druh a vlastnosti modifikovaného materiálu /12/

2.2.2 Plazmová modifikace v různých atmosférách

Při plazmové modifikaci v různých atmosférách vznikají ve vrchních vrstvách materiálů různé nové chemické struktury jako např. ketoskupiny, skupiny aldehydické, karboxylové, hydroxylové atd., které jsou původcem nových chemických vlastností.

Nejčastěji používanými plyny jsou dusík (zdroj skupin -NH2, -NH-, -NH3), kyslík (zdroj skupin -OH, -CO-, -COOH), vzduch a plyny obsahující halogenové skupiny.

2.2.2.1 Modifikace ve vzduchu

Vzduchová plazma je generovaná výboji, k nimž dochází v atmosféře vzduchu o sníženém tlaku. Zajímavé jsou rovněž účinky modifikace pomocí tzv. tichých výbojů ve vzduchu. Jsou jistou obměnou korónových výbojů, ale s tím rozdílem, že jsou generovány mezi dvěma rovnoběžnými destičkami. Takové uspořádání výbojových elektrod způsobuje, že elektromagnetické pole vznikající mezi nimi je mnohem homogennější než během korónových výbojů. Tiché výboje jsou méně destruktivní vůči modifikovanému materiálu. /19/

2.2.2.2 Modifikace v atmosféře kyslíku

Podle experimentálních pokusů způsobí kyslíková plazma při tlaku menším než 1 mbar dochází převážně k odstranění nánosů na vláknech, odstranění znečištění a eventuelně dodatečně tvorbu funkčních hydrofilních skupin. Přitom nedochází k žádnému znatelnému poškození vláken. V důsledku procesů implantace molekul plazmy do vrchní vrstvy materiálu vznikají kyslíkové skupiny : O , C=O, O-C=O, C-O-O atd. Modifikace s pomocí kyslíkové plazmy vede k oxidaci vrchní vrstvy. Oxidace se zvětšuje spolu s prodlužováním doby působení plazmy, a také závisí na síle výboje.

Proces se skládá ze dvou fází. První fáze trvá 10-20 sekund a vyznačuje se rychlým zvětšením obsahu kyslíku ve vrchní vrstvě. Druhá fáze se vyznačuje pomalejším zvětšováním obsahu kyslíku a zabírá hlubší prostory vrchní vrstvy. /19, 20/

Působením kyslíkové plazmy lze dosáhnout lepších vlastností materiálu:

- Lepší mechanické vlastnosti (větší měkkost se stejnou pevností v tahu u bavlny a jiných celulózových vláken)

- Lepší smáčivost, nešpinivá a antistatická úprava u PA, PE, PP, PET, PTFE - Nižší plstivost a lepší bělení u vlny

- Lepší vzlínavost při barvení u vlny a bavlny /21/

2.2.2.3 Modifikace v atmosféře dusíku

Vrchní vrstva materiálu se pomocí plazmy generuje v atmosféře dusíku nebo čpavku. Vede k růstu smáčivosti (u PA, PE, PP, PET, PTFE), volné povrchové energie a adhezní pevnosti. Základem je zvětšení obsahu dusíku ve vrchní vrstvě každého